Производство оборудования для выпуска чипов началось в Китае на фоне санкций США

Shanghai Aishengna Electronic Technology Group начала производить первые системы иммерсионной DUV-литографии, рассчитанные на использование при выпуске полупроводников.

Этот шаг стал ответом на ограничения со стороны США и Нидерландов, которые ограничили доступ китайским компаниям к современному оборудованию для создания микросхем.

По сведениям источников Reuters, компания планирует выпустить ограниченную серию машин: около пяти установок в 2026 году и до двадцати — в 2027-м. Среди потенциальных первых пользователей могут быть крупнейшие китайские производители чипов, такие как SMIC, Hua Hong Semiconductor и ChangXin Memory Technologies. В настоящее время эти компании в значительной степени зависят от оборудования нидерландской компании ASML — мирового лидера в области литографии.

Разработка собственной DUV-технологии считается важным шагом для китайской полупроводниковой отрасли, которая столкнулась с серьезными ограничениями после введения экспортного контроля со стороны США и их союзников. Однако пока китайские установки уступают продукции ASML по возможностям.

Главным технологическим рубежом остается EUV-литография, необходимая для производства самых современных чипов с нормами 5 нанометров и ниже. В этой сфере ASML пока сохраняет монополию: компания остается единственным коммерческим производителем таких установок в мире. Тем не менее запуск собственного производства DUV-оборудования показывает стремление Китая сократить зависимость от западных технологий в стратегически важной отрасли.